作者:vbond 发布时间:2025-06-03 11:51 浏览次数 :
随着碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)功率器件向高压高频方向发展,传统焊接材料已无法满足高温高功率密度封装需求。纳米银烧结技术凭借其卓越的导热性和高温可靠性,正成为第三代半导体封装的核心解决方案。本文将深入剖析纳米银烧结技术的最新进展及其产业化应用成果。
1. 材料特性突破
- 超高热导率:烧结后热导率达250W/mK以上
- 低温工艺窗口:可在250℃以下实现高强度烧结
- 超高熔点:烧结后熔点提升至960℃
- 纳米结构优势:50nm银颗粒实现致密烧结层
2. 关键工艺参数优化
graph LR
A[浆料制备] --> B[印刷/点胶]
B --> C[低温预烧]
C --> D[压力烧结]
D --> E[质量检测]
3. 性能对比数据
参数 | 传统焊料 | 纳米银烧结 | 提升幅度 |
热阻 | 15K/W | 5K/W | 67% |
剪切强度 | 30MPa | 50MPa | 67% |
高温稳定性 | 150℃ | 300℃ | 100% |
功率循环寿命 | 2万次 | 10万次 | 400% |